一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，

     磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

需要镀膜的样品

1、电子束敏感的样品:

主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；

2、非导电的样品:

由于样品不导电，其表  面带有“电子陷阱”，  这种表面上的电子积累  被称为“充电”。为了  消除荷电效应，可在样  品表面镀一层金属导电  层，镀层作为一个导电  通道，将充电电子从材  料表面转移走，消除荷  电效应。在扫描电镜成  像时，溅射材料增加信  噪比，从而获得更好的成像质量。

持久型小型溅射仪厂家供应技术参数；